近日中科院原始郭光灿本源电子宣布已研发出首款量子芯片EDA软件，此前它已在量子芯片生产方面取得希望，随着量子芯片EDA软件的出现，代表着我国在芯片技术方面的巨大突破，ASML的光刻机将不再成为中国芯片产业发展的巨大障碍。
近10年来，中国一直在量子盘算方面走活着界前面，早在2011年中国就创建了量子卫星技术研究，2016年中国发射了首颗量子卫星--墨子号，此后量子技术开始进入快速发展阶段，推动了中国量子盘算产业加速推进现实应用。
到现在中国已先后发布了“九章一号”、“九章二号”量子盘算机本相，而且有更多科技企业加入此中，阿里巴巴研发了超导量子技术，华为则公布了量子芯片专利，在诸多民营企业的加入后，量子盘算技术进入民用将是迟早的变乱。
随着量子盘算技术的推进，量子芯片的研发也就到了必要实施的阶段，本源电子恰恰是在量子芯片研发方面居于国内领先的企业之一，它已先后创建国内两家工程化量子芯片实行室，代表着我国自主研发量子芯片的落地。
这两年美国频频就它把握的EDA软件对中国芯片企业发难，这让中国认识到研发自主EDA软件的重要性。EDA软件被称为芯片之母，因为它将芯片计划企业和芯片制造企业联结起来，芯片企业用EDA软件开发出复杂的芯片，然后再将数据传输给芯片制造企业，云云芯片才能被生产出来。
本源电子作为国内量子芯片的领先企业之一，在刚开始发展量子芯片不久，就开发出自主的量子芯片EDA软件，无疑是未雨绸缪，从根本上创建国产量子芯片的体系，制止日后在量子芯片的计划和生产方面受制于外洋。
中国在芯片计划方面其实已达到环球先辈程度，华为研发的麒麟芯片与美国的苹果和高通开发的芯片处于同一程度；在服务器芯片方面，国产芯片企业申威研发的芯片应用于超等盘算机太湖之光，太湖之光的盘算性能在环球居于领先职位，被广泛应用于高性能盘算(HPC)、人工智能(AI)和大数据融合应用场景。
现在阻碍国产芯片的主要是生产制造工艺，国产芯片制造工艺固然已达到14nm，但是光刻机还较为依赖光刻机巨头ASML，而ASML至今未能向中国交付EUV光刻机，导致中国在开发先辈工艺方面面对困难。
为此中国开始大力大举发展28nm等成熟工艺，满足国内近七成的芯片需求，而对于更先辈的芯片除了继承依赖现有的设备发展之外，那就是开发新道路，而量子芯片、芯片材料等方面就是中国发展的新路径。
现在本源电子在量子芯片技术方面已取得巨大突破，可以说中国在开发芯片新道路方面已取得希望，另一条道路则是芯片材料，这方面中国也在持续推进。
在第三代半导体材料如氮化镓、碳化硅方面都已取得突破，这将有力提拔现有的芯片性能；在更关键的第四代芯片材料石墨烯方面，中国也已在快速跟进，现在中国已大量申请石墨烯技术，美国也积极研发石墨烯技术，此中美国初创企业SkyWater就已计划将碳纳米管引入芯片制造行业，云云可以90nm工艺生产出比7nm工艺芯片更要强50倍的芯片。
凡此种种都说明中国正积极摆脱对外洋芯片技术体系的依赖，一旦量子芯片、碳基芯片技术量产，那么光刻机将不再阻碍中国芯片产业的发展，中国芯片产业以致可望由此登上世界顶峰，这应该是包罗ASML在内的诸多外洋芯片产业链企业所不盼望看到的结果。 |
