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我国科学家初次获得纳米级光雕刻三维结构

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大宇转晴Lv.6 来自手机 显示全部楼层 发表于 2023-1-11 14:14:26 |阅读模式 打印 上一主题 下一主题
14日夜,国际顶级学术期刊《天然》发表了我国科学家在下一代光电芯片制造范畴的庞大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队,发明白一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术,将飞秒脉冲激光聚焦于质料“铌酸锂”的晶体内部,通过控制激光移动的方向,在晶体内部形成有效电场,实现三维结构的直写和擦除。这一新技术,突破了传统飞秒激光的光衍射极限,把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸,从传统的1微米量级(相称于头发丝的五非常之一),初次缩小到纳米级,达到30纳米,大大提高了加工精度。
这一庞大发明,未来或可开发光电芯片制造新赛道,有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备,在5G/6G通讯、光计算、人工智能等范畴有广泛的应用远景。
(总台央视记者 周培培)
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