哈尔滨工业大学简称哈工大，是天下上唯逐一所具有核打击本领的高校。然而，许多人不知道的是，它在精密制造领域同样是全球领先水平，早早地就“享受”美国的“特殊关照”。

迩来，国内专业学术期刊《智能制造与呆板人》发布了“哈尔滨工业大学科研成果汇编”，此中第14项“甚多轴高速超精密激光干涉测量技术”的成果简介提到，哈工大已经突破了“甚多轴高速超精密激光干涉测量技术”，技术水平处于国际领先水平。在技术指标方面，这种精密仪器技术指标非常惊人，可在m/s级高速测量下，实现0.1nm级测量精度！在应用远景介绍中，明确提到“成功应用于光刻机领域”。

这个消息含金量非常高，等于承认了国产光刻机技术水平至少达到NXT2000i以上水准

NXT2000i是荷兰ASML公司生产的ArFi系列光刻机中的最先辈型号，其对准精度达到2.0nm。这意味着这款光刻机用到的激光干涉仪测量精度至少要达到2.0纳米。

如今，公开消息已经证明，国产光刻机疑似已经用于量产麒麟9010这种7nm处理处罚器。

一是双工件台测量精度关键零部件激光干涉干涉仪精度处于国际领先水准。

查阅资料得知，天下最先辈的机床之一——美国的LODTM大型金刚石车床为了能够实现纳米级的闭环控制，该机床接纳了双频激光干涉仪进行高精密的测量，其测量精度能够达到2.5nm，测量分辨力为0.618nm，机床的加工精度达到28纳米。

哈工大这款“甚多轴高速超精密激光干涉仪”测量精度则高达0.1nm，比NXT2100i的双工件台测量精度还要高1个数量级！足以用于测量精度要求更高的EUV，远超用于生产5nm处理处罚器的ArFi光刻机所需的最低精度要求。为了控制成本，普通光刻机不需要接纳这种造价高昂的超高精度干涉仪。因此，本文推测“甚多轴高速超精密激光干涉仪”成果介绍中的“应用远景”里提到的“光刻机”指的很可能不是ArFi光刻机，而是更为先辈的“EUV”！

思量到影响光刻机曝光精度的因素除了激光干涉仪之外，还有温度变革、双工件台活动精度等因素，因此本文仍然守旧地估计上文提到的激光干涉仪只是用于ArFi光刻机。然而，不论是EUV还是ArFi光刻机，都属于高端光刻机。

二是网络大V通过显微分析证明，麒麟9010并非用ASML光刻机或尼康光刻机生产的。

2023年8月29日，顺手机一同曝光的麒麟9000S，其对准标记是ASML光刻机特有的对准标记。 然而，麒麟9010却不一样了！5月31日，B站大V“kurnal"发布了一个名为“麒麟9010芯片分析陈诉剖析(含制造# 机台分析与Dieshot)”的视频。该视频证明，通过显微镜扫描发现麒麟9010的对准标记不是ASML光刻机或尼康光刻机那种标记，这意味着麒麟9010并不是用ASML光刻机或尼康光刻机生产的。

根据公开消息，现在天下上仅有ASML和尼康两家厂商能够生产用于量产7nm及更先辈工艺处理处罚器。据此推断，国产ArFi光刻机已经用于生产麒麟9010这种7nm芯片(N+2工艺）。根据ASML官方网站发布的消息，支持量产7nm及更先辈制程工艺的ArFi光刻机最低型号是NXT2000i，因此我们推测国产光刻机至少已经达到NXT2000i的水准，并开始用于量产麒麟9010处理处罚器！

三是上海微电子公布的消息证明国产套刻设备已支持7nm制程工艺量产。

根据上海微电子公布的消息，其生产的“SHM800一体化散射套刻量测设备”可用于量产55nm～7nm工艺段处理处罚器。

由于国外早已对我国实行高速超精密激光干涉仪技术禁运，要买到这种超高精度测量设备那是不可能的，因此SHM800用到的激光干涉仪只能是国货！而我国最先辈激光干涉仪测量精度早已远超生产7纳米处理处罚器所需的设备测量精度，能够轻松满意要求。因此我们推测，国产ArFi光刻机对准精度至少达到NXT2000i水准，才气共同SHM800，用于量产麒麟9010。这大概就能表明，为何麒麟9010处理处罚器不缺货，搭载这款处理处罚器的P70系列甚至已经开始降价了。

实际上，早在2022年，《仪器信息网》上面的一篇论文就证明我国已经造出28nm光刻机样机。对光刻机足够了解的网友都知道，这种所谓28nm光刻机样机是指单次曝光即可量产28纳米制程工艺的ArFi光刻机样机。

综上所述，官方消息证明国产ArFi国产光刻设备最晚在2022年就已经造出，经过2年时间迭代改进，共同SHM800一体化散射套刻测量设备，很可能已经具备量产7nm制程工艺的技术水准。

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