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标题: 我国科学家初次获得纳米级光雕刻三维结构 [打印本页]

作者: 大宇转晴 时间: 2023-1-11 14:14
标题: 我国科学家初次获得纳米级光雕刻三维结构
14日夜，国际顶级学术期刊《天然》发表了我国科学家在下一代光电芯片制造范畴的庞大突破。南京大学张勇、肖敏、祝世宁领衔的科研团队，发明白一种新型“非互易飞秒激光极化铁电畴”技术，将飞秒脉冲激光聚焦于质料“铌酸锂”的晶体内部，通过控制激光移动的方向，在晶体内部形成有效电场，实现三维结构的直写和擦除。这一新技术，突破了传统飞秒激光的光衍射极限，把光雕刻铌酸锂三维结构的尺寸，从传统的1微米量级（相称于头发丝的五非常之一），初次缩小到纳米级，达到30纳米，大大提高了加工精度。
这一庞大发明，未来或可开发光电芯片制造新赛道，有望用于光电调制器、声学滤波器、非易失铁电存储器等关键光电器件芯片制备，在5G/6G通讯、光计算、人工智能等范畴有广泛的应用远景。

（总台央视记者周培培）

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